| Entreprise | Actions |
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| Entreprise | Actions |
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| Personne | Réseau | Fonction | Mode de signature | Depuis | à |
|---|---|---|---|---|---|
| Afficher 1 entreprise | chef de la succursale | signature collective à deux | 15.11.2010 |
Siège |
Bassersdorf (ZH) |
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But |
|
IDE |
CHE-432.485.365 |
Numéro fédéral |
CH-020.9.003.357-1 |
Registre du Commerce |
Canton Zurich |
Extrait du registre du commerce |
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2 entreprises ayant le même domicile: Bassersdorferstrasse 50, 8303 Bassersdorf
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Radiation Hepoan AG, Zweigniederlassung Bassersdorf
Rubrique: Inscriptions au registre du commerce
Sous rubrique: Radiation
Hepoan AG, Zweigniederlassung Bassersdorf, in Bassersdorf, CHE-432.485.365, schweizerische Zweigniederlassung (SHAB Nr. 222 vom 15.11.2010, S.21, Publ. 5893726), Hauptsitz in: Luzern. Infolge Aufhebung dieser Zweigniederlassung wird der auf sie bezügliche Eintrag im Handelsregister gelöscht.
FOSC: 46 du 07.03.2022
Registre journalier: 9424 du 02.03.2022
Numéro de publication: HR03-1005420995
Cantons: ZH
Grund: Handelsregister (Neueintragungen)
Hepoan AG, Zweigniederlassung Bassersdorf, in Bassersdorf, CH-020.9.003.357-1, Bassersdorferstrasse 50, 8303 Bassersdorf, Zweigniederlassung (Neueintragung).
Identifikationsnummer Hauptsitz:
CH-150.3.003.134-3.
Firma Hauptsitz:
Hepoan AG.
Rechtsform Hauptsitz:
Aktiengesellschaft.
Hauptsitz:
Luzern.
Eingetragene Personen:
Hans-Jürg, Tresch, von Göschenen, in Wangen-Brüttisellen, Leiter der Zweigniederlassung, mit Kollektivunterschrift zu zweien.
Tagebuch Nr. 39353 vom 09.11.2010
(05893726/CH02090033571)
Inclut l'accès à toutes les informations de base, aux marques et à 2 surveillances.
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